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東莞市鼎偉新材料有限公司專業(yè)生產(chǎn):鎳釩合金靶、高純鉻靶、鈦鋁靶、鉻鋁靶、鎳鉻合金靶、鎢鈦合金靶材等;公司先后研發(fā)的蒸發(fā)材料、濺射靶材系列產(chǎn)品廣泛應(yīng)用到國內(nèi)外眾多知名電子、太陽能企業(yè)當(dāng)中,以較高的性價(jià)比,成功發(fā)替代了國外進(jìn)口產(chǎn)品,頗受用戶好評(píng)。

高純鉻靶的目標(biāo)雜質(zhì)控制

時(shí)間:2021-04-16瀏覽數(shù):1086

高純鉻靶的目標(biāo)雜質(zhì)控制:如果靶中的夾雜物數(shù)量過多,則在濺射過程中可能在晶片上形成顆粒,從而導(dǎo)致互連線短路或斷開,這將嚴(yán)重影響膜的性能。高純鉻靶中的大多數(shù)夾雜物是在冶煉和鑄造過程中形成的,主要由氧化物組成,但也包括氮化物,碳化物,氫化物,硫化物,硅化物等,因此應(yīng)在冶煉和鑄造過程中使用。坩堝,內(nèi)部 流道,鑄模等由還原性材料制成,在澆鑄之前,應(yīng)將熔體表面的氧化物和其他爐渣徹底清除。 通常,它們?cè)谡婵栈驘o氧環(huán)境中熔融并澆鑄。鉻靶批發(fā)、鉻靶價(jià)格在市場(chǎng)也是不一樣的。


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